2004年12月08日

お知らせ

セミコン・ジャパン2004に出展


 稲畑産業は12月1日から3日間、千葉県・幕張メッセで開催された世界最大級の半導体製造装置・材料の展示会「セミコン・ジャパン2004」に出展しました。

 前工程ブースでは米n&k Technology, Inc. <www.nandk.com>の薄膜特性測定装置の新しい用途や、Micro Lithography, Inc.<http://www.mliusa.com/>のフォトマスク用最先端ペリクルの特色などを紹介しました。会場内の別室で開催されたn&kによる半導体デバイスメーカー向けのセミナーも多数の参加を受け、盛況でした。
 また今年はピュロライト・インターナショナル株式会社<http://www.purolite.co.jp/>のイオン交換樹脂や株式会社ロキテクノ<http://www.rokitechno.co.jp/>の高濃度オゾン発生器の特色などを初めて展示しました。

 後工程ブースでは関係会社・株式会社しなのエレクトロニクス<www.synax.co.jp>の処理能力を大幅にアップした新型ハンドラー「SX3100」や、化研テック株式会社<www.kaken-tech.co.jp>の鉛フリー半田対応フラックス洗浄システムに加え、ディスクテック株式会社<http://www.disctech.co.jp/>の赤外線顕微鏡などの特色を紹介しました。


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