2008年12月16日

お知らせ

セミコン・ジャパン2008に出展

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 稲畑産業は2008年12月3日(水)から5日(金)の3日間、千葉県の幕張メッセにて開催された『SEMICON Japan 2008』に出展しました。同展示会は世界最大級の半導体製造装置・材料の国際展示会で、本年は約1500社が出展、世界各国から延べ約9万7千人が訪れました。
 当社ブースでは、3次元検査装置(三谷商事 ビジュアルシステム部)、有機膜成膜装置(AMST)、トレンチ深さ測定装置(AMS)などを紹介しました。

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(ウエハー工程関連ブース)

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(テスティング・アセンブリー工程関連ブース)

期間: 2008年12月3日(水)~5日(金) 10:00~17:00
会場: 幕張メッセ(稲畑産業ブース:4B―406 ・ 10A―501)
SEMICON JAPAN 2008 オフィシャルサイト
http://www.semiconjapan.org/sj-jp/index.htm

【展示商品】
● ウエハー工程関連 (4B―406)
・ VUV光学式薄膜測定装置 (METROSOL)
・ トレンチ深さ・CD、エピ膜ドープ濃度測定装置 (Advanced Metrology Systems, AMS)
・ 金属膜測定装置 (Advanced Metrology Systems, AMS)
・ マクロレビュー兼エッジ検査装置 (HSEB Dresden)
・ 観察用顕微鏡(カールツァイス光学系搭載) (HSEB Dresden)
・ マスクアライナー(露光装置) ((株)大日本科研)
・ スピンコータデベロッパ (Scientific Value Solution, SVS)
・ 半導体製造装置用ペデスタル(嫌振架台)、
FAB床振動モニター (MECAL)
・ In-situエピ膜測定 (Optical Reference Systems, ORS)
・ 赤外線顕微鏡 (ディスクテック(株))
・ 有機薄膜製膜装置 (Applied Microstructures)
● テスティング・アセンブリー工程関連 (10A―501)
・ ハンドラ  ※実機展示 (SYNAX (株)しなのエレクトロニクス)
・ 鉛フリー半田対応フラックス洗浄システム (化研テック(株))
・ 非接触高速3D表面形状解析システム (三谷商事(株)ビジュアルシステム部)
・ N2循環精製装置 ((株)FEBACS)
・ ウエハエッジプロファイル測定装置 (大倉インダストリー(株))

お問合せ先:
稲畑産業株式会社 電子機能材本部 TEL:03-3639-6549
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