半導体関連製品
| マスクブランクス（アルバック成膜（株）） |  |
| フォトマスク製造用のガラス基板。5“～70”サイズ対応。PSMマスクブランクスなど最先端半導体用途から、TFT・LCD、PDP用途まで、フルラインナップで対応致します。 |  |
| ペリクル（米MLI社） |  |
| 半導体ウエハー露光時ガラスマスクに貼る特殊フィルム（ペリクル）の世界トップシエア米国MLI社。 NIKON、CANON、ASMスッテッパー/スキャナー用ArF、KrF、i線対応、各種プロジェクションアライナー用をフルラインナップで対応致します。（米MLI社） |  |
| 半導体リソグラフィー用反射防止膜（ARC、BARC等） | |
| ArF、KrF、i線用低反射コートをお客様のプロセスにマッチングさせご提供いたします。 |
| 全自動コーター・デベロッパ（レジスト塗布・現像装置）（韓SVS社） |  |
| SVS社のコーターデベロッパーは、完成度の高い設計で、R&D用途から量産用途まで、高精度かつ幅広いアプリケーションに対応しております。お客様の特定の用途や詳細ご要望に、カスタマイズが可能です。さらに、扱いやすいユーザーインターフェースによりオペレーティングも簡単で、リーズナブルな価格にてご提供しております。 >>詳しくはこちら  |
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| 半導体用・FPD用露光装置（マスクアライナー、直描露光装置） OLED用封止装置 （（株）大日本科研、INDEXテクノロジーズ（株）） |
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| 半導体・MEMS・FPD（LCD、OLED、PDP）の分野で、R&D用のマニュアルタイプから量産用フルオート仕様までの幅広いラインアップで、コンタクト式を始め、ノンコンタクトプロキシミティ一括露光、さらにマスクが必要ない直描型露光装置の中から、最適な露光装置をご提案します。 |  |
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