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電子機能材本部

FPD関連製品

リソグラフィ工程 ウエハー加工工程 検査・測定工程 組立・検査工程
マスクブランクス(アルバック成膜(株))
フォトマスク製造用のガラス基板。5“~70”サイズ対応。PSMマスクブランクスなど最先端半導体用途から、TFT・LCD、PDP用途まで、フルラインナップで対応致します。
ペリクル(米MLI社)
半導体ウエハー露光時ガラスマスクに貼る特殊フィルム(ペリクル)の世界トップシエア米国MLI社. NIKON、CANON、ASMスッテッパー/スキャナー用ArF、KrF、i線対応、各種プロジェクションアライナー用をフルラインナップで対応致します。(米MLI社)
半導体リソグラフィー用反射防止膜(ARC、BARC等)
ArF、KrF、i線用低反射コートをお客様のプロセスにマッチングさせご提供いたします。
全自動コーター・デベロッパ(レジスト塗布・現像装置)(韓SVS社)
SVS社のコーターデベロッパーは、完成度の高い設計で、 R&D用途から量産用途まで、高精度かつ幅広いアプリケーションに対応しております。お客様の特定の用途や詳細ご要望に、カスタマイズが可能です。さらに、扱いやすいユーザーインターフェースによりオペレーティングも簡単で、リーズナブルな価格にてご提供しております。

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半導体用・FPD用露光装置(マスクアライナー、直描露光装置)
OLED用封止装置
((株)大日本科研、INDEXテクノロジーズ(株))
半導体・MEMS・FPD(LCD、OLED、PDP)の分野で、R&D用のマニュアルタイプから量産用フルオート仕様までの幅広いラインアップで、コンタクト式を始め、ノンコンタクトプロキシミティ一括露光、さらにマスクが必要ない直描型露光装置の中から、最適な露光装置をご提案します。
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