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分子気相成膜(MVD)装置 (Applied MST社)

MVD膜の機能例 MVDとは? 特徴 お問い合わせ
AMST社のMVD装置は、金属や樹脂等の各種基板 に下記のような機能薄膜を成膜できる装置です。
弊社ではデモ機を保有しており、サンプル成膜や受託加工にも 対応しております。

  • MEMSデバイスの固着防止(アンチスティクション)薄膜
  • 撥水、親水、生体適応、密着などの表面処理
  • パターニング不要の半導体ウエハ金属パッドの腐食 変色防止薄膜
  • ナノインプリントモールドの離型薄膜
  • インクジェットヘッドの高耐擦性撥インク薄膜
  • 防湿、耐ケミカルバリア膜

アプリケーション別AMSTのMVD膜の機能例
【シリコンMEMSのアンチ・スティクション(固着防止)膜
MVD成膜 摩擦係数 接着仕事量
(MJ/M2)
成膜なし 1.1 20000
F1膜 0.2 3

【 濡れ性が調整可能 】


【優れた温度安定性 】


【高い耐摩耗性膜 】
【非常に高い成膜カバレッジ性 】


【ナノインプリント型の離型性改善】


【低温プロセスでの防湿膜成膜】



【液相成膜法とMVD法でのコスト比較】

あるMEMSユーザで様の実際の製造コスト比較

競合の液相法
・複数の設備が必要
・手作業による高コスト
・薬液を大量に使用
・廃液処理が必要
AMSTのMVD法
・材料の使用量が格段に少ない
・一括自動処理
・省スペース
・廃液が出ない
9米ドル/ウエハ 18米セント/ウエハ
What is MVD?
MVD®(分子気相成膜)法は、AMSTの特許技術で、アンチ・スティクション(非固着)膜や、撥水膜、親水膜、接着膜、生体適合膜や保護膜、反応性膜といった各種機能膜を 低温で成膜できる革新的な成膜技術です。


AMSTのMVD成膜装置は、SAM(自己組織化単分子)膜、ALD(原子層堆積)法による薄膜、CVD法による薄膜を組み合わせた複雑な高機能薄膜を1台の装置で連続成膜できます。

これらの成膜手法はMEMS、ナノインプリントプロセス、インクジェットプリンター、ライフサイエンス、半導体パッケージの金属パッド保護などの用途で、すでに世界中で量産レベルで使用され始めています。

■MEMSの歩留まり改善
片持梁構造の摩耗テスト
Sample Lifetime (cycles)
No coating 6.70E+03
MVD® >1.0E+8

High-G ショックテスト
(MEMS マイクロフォン)
MVD Film 欠陥発生確率
なし 14%
MVD ®膜あり 0.4%
■ナノインプリントモールド: 離型性の保持


■半導体パッケージの実装パッドの酸化防止



■防湿膜


■ライフサイエンス用途
MVD 装置とMVD膜の特徴

機能膜材料の消費は必要最少量
・極薄膜 (20-500Å)
・低温成膜
・バッチもしくは基板一枚ずつ処理
(6もしくは8インチウエハカセット丸ごと処理可能)
・多種多様な基板種類に対応可能
・SAM膜、CVD膜、ALD膜の統合プロセス
・低い膜欠陥密度
・有機薄膜、有機金属薄膜が成膜可能
・自動成膜処理
・優れた膜厚均一性と高いカバレッジ特性
・有用性は多数の量産現場で実証済み
   
 
 
AMST はこれまで、60台に近い装置を欧米、アジア、中東など世界各地の客先に納入し、設置を終えています。
項目 MVD100E-4 MVD150
プロセスチャンバー温度範囲 35 to 100° C 35 to 150° C
ユーティリティーガス温度範囲 35 to 100° C 35 to 150° C
プロセスガス温度範囲 35 to 120° C 35 to 150° C
プロセスチャンバー寸法 10.40” L x 11.70” W x 3.00” Deep (With Liners)
11.10” L x 12.40” W x 3.25” Deep (Without Liners)
10.25”H x 13.40” W x 10.00” Deep 
装置寸法cm (Inch)
H x W x D(ドアを閉めた状態)
137 x 122 x 76 (54 x 48 x 30) 185 x 122 x 107 (72.76 x 48 x 41.63)
概算重量 kg (lbs) 363 (800) 546 (1200)
チャンバー用高温対応静電容量型圧力計 標準 標準
シーメンスPPC67715T HMIインターフェース 標準 標準
高精度チャンバー温調制御± 5°C 標準 標準
生産性ソフトウエア 標準 標準
加熱したチャンバーN2 オプション 標準
自動化 対応不可 オプション
デガス 標準 標準
プロセス能力 MVD: SAM, CVD-type, ALD-type MVD: SAM, CVD-type, ALD-type
異物コントロール 対応不可 標準
メンテナンス性の高いデザイン 標準 標準

■成膜加工受託にも対応しております。

これまでAMSTでは MEMS, インクジェット, バイオ他の用途で、多くのお客様のデバイスを数多く処理してまいりました。

稲畑産業およびAMSTでは、装置購入前提でなくても、MVD成膜にご興味があるお客様に対し、有償での成膜加工を受託しております。

MVD®膜の種類   成膜可能な基板材料
・撥水膜/親水膜
・撥油膜/ 親油膜
・自己修復膜
・滑材/非固着膜
・低温で酸化膜を成膜
・耐食膜
・水分 / 油分バリア
・接着強化/下地膜
・離型膜
・生体適合膜/生体反応膜
・各種機能膜
・高カバレッジな各種機能膜
 
・Silicon
・Metals (Al, Ti, Cr, Au, Cu, etc.)
・Oxides (SiO2, SiNx)
・Glass and Acrylics
・Polycarbonates
・Polystyrene
・Poly-propylene
・PMMA
・PDMS
・SU-8
・Photoresists
お問い合わせ先
詳細のご説明のご要望や、サンプル成膜デモのご依頼につきま しては、
お気軽に下記までお問い合わせください。
稲畑産業株式会社
電子機能材本部 装置グループ
東京都中央区日本橋本町2-8-2
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ISRAEL:
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